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 感抗:   75-800(mA)  品质因素Q值:   0.1NH-100NH(mH)

利用光蚀刻 (Photo Lithography) 技术将所需图案蚀刻在基板上,具平面式单层绕线可达到高稳定度、高可靠度、高共振频率(SRF)、高精密度及微小型化等优点。可提供0201、0402及0603尺寸。精度达到 ±0.1nH或±1%。主要应用于信息、通讯及消费性电子产品,如手机、无线上网网卡, 蓝芽模块、GPS等掌上型高频无线通讯产品。                                         
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